Téma: Problém s deskami pro vyrobu DPS fotocestou !!!
uz nekolikrat sem se zminoval o vyskytu ne zrovna kvalitnich polotovaru pro vyrobu DPS - puvodne s tim zacal GMe - tyto "nove" desky u nich nejsou baleny v cerne zatavene folii a narozdil od drive distribuovanych jsou jen prelepeny neprusvitnou folii na bazi klasicke izolacky.. problem byl jednak v tom ze nejsou z klasickeho FR4 nybrz z lamave hmoty ktera nejde moc dobre delit klasickymi metodami (strihani, pripadne nariznuti+dolomeni..) a druhak ve spatne kvalite fotorezistivni vrstvy..
problem jsem do ted resil nakupem desek v GESu kde jeste nejspis meli nedoprodane starsi zasoby.. jenze nyni se mi povedlo koupit v GESu desku, klasicky balenou v zatavene cerne folii, jenze uvnitr byl tenhle zmetek.. sice narozdil od GMe sklolaminatovy zaklad, nybrz opet izolacka a fotorezist na prd..
problem s osvitem a leptanim je nasledujici: jednak je tyto desky nutne svitit podstatne delsi cas nez u drive distribuovanych desek - drive jsem pouzival 3,5min z cca 30cm, coz na tuhle vrstvu nestaci, minimalnich/optimalnich sem otestil tak 8/10 min.. coz to by sam o sobe nebyl az takovy problem - problem vsak je ze i po expozici trvajici podstatne dele (15min, 25min..) zustava po vyvolani (0,7% NaOH -aq) na svicenych mistech stale vyvojkovzdorna vrstvicka neceho - co uz sice fotorezistivni maska neni ale za to je to prakticky neodstranitelne a pri leptani to velice kvalitne brani v probihajici reakci.. tato vrstvicka je (opet experimentalne) neodstranitelna ani extreme dlouhym pobytem ve vyvojce, kdy po nekolika hodinach dojde k destrukci samotne masky ovsem zminena necistota na cele vrstve medi zustane dal..
pro ilustraci pridavam porovnani na prostorove/rozmerove jeste celkem nenarocne (min 13mil cesty/min 20mil mezery) desce Li-xx nabijece.. v obou pripadech byla pouzita totozna maska, stejna sarze vyvojky i leptaciho roztoku...
nejprve byla leptana desticka z noveho materialu (cerna zatavena folie - fototrezist hnedy polepeny modrou folii podobnou izolacce):
osvit - 10min/30cm
5min pauza
vyvojka 0,7%NaOH-aq
ususeni
leptani v tech. 40% FeCL3, cca 50°C , ve 250ml kadince..
vysledek temer hodinoveho leptani je na fotografii.. zatim co na levem hornim okraji jiz dochazi ke zretelnemu podleptani, na nekterych castech desky )zejmena patrne v pravem dolnim rohu) je jeste tenounka vrsticka medi a sire kolem ni je videt vrstvicka neceho co evidentne brani Cu v dokonalem odleptani.. vsechny kontury neostre - tj. evidentni podleptani..
jako druha sla na radu deska z puvodniho materialu (cerna zatavena folie - zelena vrstva fotorezistu prekryta jen vlozenym pauzakem)
(pozn. pouzit byl odrezek z oboustranne desky nebot ty dobre jednostranne uz mi dosly druha strana jen proste nebyla vyvolavana)
osvit 3,5min/30cm
5min delay
vyvojka 0,7% NaOH-aq (ta sama vyvojka jako v prvnim pripade, v te same kadince)
opet ususeni
leptani v tech. 40% FeCL3, cca 50°C , (ten stejny roztok co v prvnim pripade v te same 250ml kadince.. jen opetovne vyhraty na 50°C..)
leptani trvalo obvyklych cca 10min a vysledek je temer dokonaly (vytknout se da snad jen jen lehke podleptani v mistech po strihani na okrajich, pouzil sem fakt prvni zbyly odrezek co mi prisel pod ruku a byl tak akorat..)
pro srovnani jeste pridavam fotografii obou desek:
otazkou ovsem zustava co s tim ? na desku se spoji 20mil pro pouziti klasickych soucastek by jeste nejake drobne podleptani ci naruseni kontur nemuselo tak vadit ale co kuprikladu pro QFN s ropzteci vyvodu 20mil (10mil cesa/10mil mezera) tam uz by to byla vylozene sebevrazda...
...jako prvni samozrejme zkusim pres GES kontaktovat vyrobce a dotazat se cim by to mohlo byt (osobne mam podezreni na difundovani lepici vrstvy kryci folie do fotorezistu..) pripadne jak je mozne desku osetrit/odmastit aby to nenarusilo fotorezist a kvalitu masky..
pokud ma nekdo nejaky tip/trik sem s tim.. :|